真空(低压)等离子放电原理
真空等离子放电在低于大气压的环境中进行,通常在1-1000 Pa的气压范围内。低压环境使电子自由程增长,电子能够在电场中积累足够能量以引发电离,同时避免高气压下容易形成的电弧放电。真空等离子处理机主要采用直流辉光放电、射频容性耦合、射频感性 […]
真空等离子放电在低于大气压的环境中进行,通常在1-1000 Pa的气压范围内。低压环境使电子自由程增长,电子能够在电场中积累足够能量以引发电离,同时避免高气压下容易形成的电弧放电。真空等离子处理机主要采用直流辉光放电、射频容性耦合、射频感性 […]
大气压等离子放电在常压环境下进行,无需真空腔体和真空泵系统,设备结构简单、成本低,适合在线连续化生产。主要技术路线包括介质阻挡放电、电晕放电、等离子体射流和滑动弧放电四种。 3.2.1 介质阻挡放电(DBD) 介质阻挡放电是在两个电极之间插 […]
不同放电方式在电子密度、离子能量、处理均匀性、气压要求等方面存在显著差异。选择合适的放电技术需要综合考虑材料特性、处理目标和产线条件。 3.3.1 电子密度与活性粒子浓度 电子密度直接决定等离子体的化学活性强度,是衡量放电效率的核心指标之一 […]