25L台式真空等离子处理机
型号 JL-VB25 等离子源系统 等离子发生器 中频频率：40KHZ；功率1000W可调 真空系统 真空腔体 材质 316不锈钢 腔体内部尺寸 380mm(宽）X390mm（深）X170mm（高） 极板 3层，水平式，活动可调节 物料托盘 […]
晶圆等离子去胶机
10L立式真空等离子处理机
采用电感性等离子体刻蚀（ICP）技术通过射频等离子电源在真空腔室内激发工艺气体，产生低温等离子体。该等离子体能高效地对放置于小型 10L 真空腔室内的工件表面进行物理轰击与化学反应。应用于：新材料研究与开发、小型精密零部件、传感器、MEMS器件、小型样品批次的处理、粘接前处理、镀膜/涂装前处理、焊接前清洁。
卡塞式晶圆等离子去胶机
卡塞式真空等离子去除光刻胶设备是一种基于等离子体技术的干法工艺设备，专为半导体制造、微电子加工、MEMS、LED及科研实验中高效、精准地去除光刻胶而设计。其核心在于利用等离子体的物理和化学作用，在不损伤衬底的前提下实现光刻胶的彻底清除，是现代精密制造中不可或缺的关键设备之一。
平板式晶圆等离子去胶机
平板式真空等离子去除光刻胶设备是一种基于等离子体技术的干法工艺设备，专为半导体制造、微电子加工、MEMS、LED及科研实验中高效、精准地去除光刻胶而设计。其核心在于利用等离子体的物理和化学作用，在不损伤衬底的前提下实现光刻胶的彻底清除，是现代精密制造中不可或缺的关键设备之一。
30L真空等离子处理机
对材料表面进行清洗，活化改性，去除有机物，去除氧化物，去除微小颗粒；提升亲水性，增强粘接性，附着力，分子活性。应用于硅片、金属、玻璃、橡胶、高分子材料、PTFE、PCB等材料表面的清洁、处理，增强亲水性、粘接力。
60L真空等离子处理机
应用于半导体/电子/LED，去除微细污染物（如光刻胶、氧化物）；对塑料橡胶，清除脱模剂、油污，活化难粘塑料（如PP、PTFE）表面；对医疗器械（如导管、支架）进行超洁净处理并引入亲水基团；对纤维表面进行亲水改性；去除金属表面油脂、氧化层等等。
150L真空等离子处理机
应用于半导体/电子/LED，去除微细污染物（如光刻胶、氧化物）；对塑料橡胶，清除脱模剂、油污，活化难粘塑料（如PP、PTFE）表面；对医疗器械（如导管、支架）进行超洁净处理并引入亲水基团；对纤维表面进行亲水改性；去除金属表面油脂、氧化层等等。
200L真空等离子处理机
应用于半导体/电子/LED，去除微细污染物（如光刻胶、氧化物）；对塑料橡胶，清除脱模剂、油污，活化难粘塑料（如PP、PTFE）表面；对医疗器械（如导管、支架）进行超洁净处理并引入亲水基团；对纤维表面进行亲水改性；去除金属表面油脂、氧化层等等。
100L真空等离子处理机
应用于半导体/电子/LED，去除微细污染物（如光刻胶、氧化物）；对塑料橡胶，清除脱模剂、油污，活化难粘塑料（如PP、PTFE）表面；对医疗器械（如导管、支架）进行超洁净处理并引入亲水基团；对纤维表面进行亲水改性；去除金属表面油脂、氧化层等等。
10L台式真空等离子处理机
采用电容耦合（CCP）技术，通过内置电极板高频电场直接电离气体，生成均匀稳定的高活性等离子体，该等离子体能高效地对放置于真空腔室内的工件表面进行物理轰击与化学反应。应用于：新材料研究与开发、小型精密零部件、传感器、MEMS器件、小型样品批次的处理、粘接前处理、镀膜/涂装前处理、焊接前清洁。